鍍膜用于學術性的語言稱之為薄膜沉積（Thin film depositon）是一種常用的表面處理工藝。被廣泛應用于機械加工、半導體、裝飾材料等領域。下面工采網通過本文向大家介紹一下半導體鍍膜工藝中的流量監測。
鍍膜是利用化工產品上光性或者樹脂型化工產品在物體表面形成一層薄膜狀態物質、也就是保護層！鍍膜工藝一般是PVD和CVD。PVD：物理氣相沉積。通過plasm轟擊金屬靶材（金靶，銅靶，Al，Cr.....），金屬原子脫離靶材，落在wafer表明，形成薄膜。CVD：化學氣相沉積。這個是通過化學反應，在晶圓表面張氧化薄膜。兩種工藝顯示如下：將鍍膜原料（氣體或蒸汽）經過適當的過程（如分解、化合）使其沉積于基材表面的方法被稱為化學氣相沉積（CVD），而將鍍膜材料直接冷凝至基材表面成膜則稱為物理氣相沉積（PVD），其中PVD根據其不同的方法又可細分為蒸發、離子沉積、離子濺射、磁控濺射、分子束外延等。
另一方面PVD鍍膜加工的原理是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術，使靶材蒸發成為反應產物沉積在工件上的，物理工藝,綠色健康，質最穩定。因而在真空鍍膜機中經常使用到的熱式氣體質量流量控制器主要是用來控制氣體的進氣量，把氣體流量準確的輸入到真空腔室內。氣體質量流量控制器主要是用于控制微小流量的氣體，采用全新的制作工藝，是在20℃，1個大氣壓條件下標定的，主要是指氣體在1分鐘的體積流量單位。為監測熱式氣體質量流量控制器流量變化情況工采網推薦使用液體流量傳感器 液體計量用 - PLF2000系列。
PLF2000系列液體流量傳感器，以代替機械渦輪流量傳感器。以MEMS熱流量芯片為核心，PLF2000擁有更高的精度和重復性，即使在流量脈動的情況下也能提供線性數字輸出。由于沒有活動部件，PLF2000不會卡住，也不會發生機械故障。清潔時無需拆卸。此外，由于其流道中不會引入障礙物（即渦輪），因此具有zui小的流阻，使液體能夠通過重力、鍋爐或低功率泵來循環。
得益于精密加工的創新，PLF2000采用第三代熱流量芯片。傳感器芯片采用 一對熱電堆來檢測由質量流量引起的溫度梯度變化，提供了極好的信噪比和重復性。“固態”隔熱結構消除了在競爭技術中使用表面空腔或易碎膜的需要。傳感器芯片，加上其碳化硅保護膜，能夠直接接觸液體，允許zui高水平的靈敏度和zui低成本的包裝。
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